TOP＞Produk＞Partikel Halus＞Fabrikasi material berpori (Pembentuk Pori)

Partikel Halus

Chemisnow™ sebagai pembentuk pori

Chemisnow™ as pore formers

Chemisnow™ dapat digunakan untuk fabrikasi material berpori melalui pelarutan atau purolisis pelarut organik

Ketahanan Pelarut

Air MeOH MEK Etil Asetat Toluen
Jenis yang larut dalam pelarut Tidak larut Tidak larut Larut Larut Larut
Jenis yang tidak larut dalam pelarut Tidak larut Tidak larut Tidak larut Tidak larut Tidak larut

Pyrolysis Behavior

The low temperature Pyrolysis type completely decomposes at a low temperature of 300 degree-C or less.

Aplikasi

➀ Material Karbon: Kapasitor Super, Karbon Aktif, dll.
➁ Material Keramik: Katalis, Filter, Elektroda Sel Baterai, dll.
③ Material Polimer: Film Berpori & bahan sejenis lainnya.

Seri yang Direkomendasikan

Partikel dispersi sempit akrilik ikatan silang "Seri MX"
Partikel dispersi tengah akrilik crosslinked "Seri MZ"
Partikel dispersi lebar akrilik bertautan silang "Seri MR"
Partikel akrilik non-crosslinked "Seri MP"

Crosslinked acrylic narrow-dispersion particles “MX Series”
Partikel Halus
Cari berdasarkan aplikasi
LCD (difusi cahaya)
Cat
Toner
Kosmetik
Film (agen anti pemblokiran (AB))
FRP（SMC,BMC）
Fabrikasi material berpori (Pembentuk Pori)
Cari berdasarkan produk
Partikel dispersi sempit akrilik ikatan silang "Seri MX"
Partikel dispersi tengah akrilik crosslinked "Seri MZ"
Partikel dispersi lebar akrilik bertautan silang "Seri MR"
Partikel dispersi lebar akrilik bertautan silang “Seri KMR”
Dispersi lebar styrene yang saling terkait dan partikel yang sangat tahan panas “Seri KSR”
Partikel akrilik non-crosslinked "Seri MP"
Partikel dispersi sempit stirena bertautan silang "Seri SX"
Partikel dispersi lebar stirena yang terhubung silang “Seri SGP”
問い合わせ

Pertanyaan tentang produk

Email

メールでのお問い合わせ

Daftar Produk

Pita Perekat Adhesif Peka Tekanan Partikel Halus
Material Fungsional